2024年5月，高沃知識產(chǎn)權(quán)將赴美國佐治亞州亞特蘭大參加全球知識產(chǎn)權(quán)專業(yè)人士的年度盛會——國際商標協(xié)會（INTA）第146屆年會。作為中國知識產(chǎn)權(quán)領(lǐng)域優(yōu)秀代表，高沃將在會場設(shè)置展臺（展位號607），期待與世界各地的知識產(chǎn)權(quán)合作伙伴溝通合作，共同推進客戶的知識產(chǎn)權(quán)全球化保護。

INTA2024亞特蘭大年會將于5月18-22日舉行，會議細分為知識產(chǎn)權(quán)創(chuàng)新（The IP and Innovation Track）和商業(yè)專題（The Business Track）。除各國知名律所與專業(yè)機構(gòu)外，眾多來自世界各地的政府官員也將出席本次會議。

作為知識產(chǎn)權(quán)服務(wù)的優(yōu)秀代表，高沃始終致力于為全球客戶提供卓越的服務(wù)體驗。目前，高沃已與全球180多個國家或地區(qū)的上千家律師事務(wù)所達成合作伙伴關(guān)系，并在美國達拉斯和日本東京設(shè)立了海外辦事處，形成了覆蓋全球的知識產(chǎn)權(quán)服務(wù)網(wǎng)絡(luò)。

此次INTA年會之旅，高沃將積極參與各類研討會、講座和交流活動，秉承全心全意為客戶創(chuàng)造價值的宗旨，與全球知識產(chǎn)權(quán)界的合作伙伴們共同探討知識產(chǎn)權(quán)的最新發(fā)展和趨勢，攜手推動知識產(chǎn)權(quán)事業(yè)的持續(xù)繁榮與進步。